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2026年中國光芯片產業(yè)鏈圖譜及投資布局分析(附產業(yè)鏈全景圖)
來源:中商產業(yè)研究院 發(fā)布日期:2026-03-10 08:34
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2.光刻機

(1)全球市場規(guī)模

近年來,受到芯片需求增長的影響,光刻機市場規(guī)模穩(wěn)步增長。中商產業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國光刻機市場調查與行業(yè)前景預測專題研究報告》顯示,2024年全球光刻機市場規(guī)模達315億美元,同比增長16.2%。中商產業(yè)研究院分析師預測,2026年將達392億美元。

數據來源:中商產業(yè)研究院整理

(2)全球光刻機銷量

商產業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年中國光刻機市場調查與行業(yè)前景預測專題研究報告》顯示,2025年全球光刻機銷量約645臺,同比下降。ASML出貨327臺(含48臺EUV),尼康約29臺,佳能約289臺。中國市場占ASML銷售額33%,仍是最大市場。中商產業(yè)研究院分析師預測,到2026年全球光刻機銷量將繼續(xù)增長至680臺。

數據來源:中商產業(yè)研究院整理

3.刻蝕機

(1)全球市場規(guī)模

全球半導體刻蝕設備市場由泛林半導體、東京電子、應用材料三巨頭壟斷超80%份額,中國廠商在成熟制程領域實現突破但先進制程仍依賴進口。中商產業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030全球及中國半導體設備行業(yè)深度研究報告》顯示,2023-2025年全球半導體刻蝕設備市場規(guī)模從148.2億美元增至164.8億美元,年均復合增長率約5.5%。中商產業(yè)研究院分析師預測,受益于3D NAND擴產及先進制程迭代,2026年全球半導體刻蝕設備市場規(guī)模將達173.8億美元。

數據來源:中商產業(yè)研究院整理

(2)重點企業(yè)分析

刻蝕機行業(yè)的競爭格局呈現出高度集中且競爭激烈的態(tài)勢。全球范圍內,以LAMResearch、AMAT和TEL為代表的國際巨頭占據了市場的主導地位,它們憑借先進的技術、豐富的產品線和廣泛的客戶群體,在全球刻蝕機市場中占據了大部分份額。中微公司和北方華創(chuàng)等本土企業(yè)憑借自主研發(fā)和創(chuàng)新能力,逐漸在刻蝕機領域嶄露頭角,成為國內刻蝕機行業(yè)的領軍企業(yè)。具體如圖所示:

資料來源:中商產業(yè)研究院整理

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